Настольная диффузионная печь

Практичное решение для лабораторий и опытных производств

Настольная диффузионная печь SVCS создана для применения в научно-исследовательских лабораториях и опытном производстве, сохраняя при этом характерный для полупроводниковой промышленности уровень качества. Система может быть использована для целого ряда различных процессов, благодаря широкой универсальности и количеству доступных опций.

подробнее

Процессы

  • Диффузия из твердых, жидких и газообразных источников
  • Сухое или влажное окисление + Trans-LC
  • Отжиг (в форминг-газе или азоте)
  • Спекание
  • Сушка и термообработка полиимидов
  • APCVD, LPCVD, MOCVD
  • Нитрид кремния
  • Поликремний, аморфный кремний
  • TEOS, HTO, LTO
  • Графен, УНТ, нанопроводники

Особенности

  • Конструкция для атмосферных или вакуумных процессов
  • Компактный размер
  • Малое энергопотребление
  • Простое управление и обслуживание
  • Нагревательный элемент, 1 или 3 температурные зоны с макс. температурой до 1300 oC
  • Современная проприетарная модульная система управления
  • До 8 газовых линий и до 2 жидких источников
  • Аппаратная блокировка, разделенная с системой управления
  • Интеграция вакуумных насосов от ведущих производителей вакуумного оборудования

Технические характеристики

 Размер пластин  2″ — 6″ (50 мм — 150 мм)
 Размер загрузки  до 25 пластин в загрузке
 Нагреватель  1 или 3 зоны, провод из материала Kanthal® APM/A1
 Рабочая зона  12″ (300 мм)
 Температура процесса  200 oC  —  1300 oC, ± 0.5 oC по длине зоны
 Энергопотребление  20 кВА
 Источник питания  Трехфазный, 400 или 480VAC, 50 A, 50 или 60 Гц
(система всегда адаптируется к сети питания заказчика)
 Сжатый воздух  70 – 110 psig (от 4,8 до 7,6 бар)
 Охлаждающая вода  40 — 60 л/мин
 Вытяжная вентиляция  210 м³/ч
 Опции  модуль CEM, система EBS, инженерное оборудование

 

Обратитесь к нашему региональному представителю

Показать центральные офисы